Rynek półprzewodników SiC imponuje tempem wzrostu aż 25,7% rocznie, a do 2032 roku osiągnie wartość 9,35 miliarda dolarów. Za tym wzrostem kryje się rewolucja technologiczna: przejście od struktury planarnej do rowkowej w tranzystorach MOSFET.
Inżynierowie projektujący systemy energoelektroniki stają dziś przed wyzwaniem: jak zoptymalizować układ, który musi być wydajny, lekki, odporny na temperatury i bezpieczny w pracy przy wysokim napięciu. Najważniejszą decyzją okazuje się wybór architektury tranzystora mocy — MOSFET trench vs planar — a także jakość materiału bazowego, jakim jest węglik krzemu. Półprzewodniki z tego materiału to niewątpliwie przyszłość tej branży. W artykule przedstawiamy różnice między tymi strukturami, analizujemy wyzwania technologiczne oraz prezentujemy zastosowania SiC w praktyce, w tym w odniesieniu do oferty CERAMIT.
Rynek SiC: napędzany przez pojazdy elektryczne i 5G
MOSFET (ang. Metal-Oxide-Semiconductor Field-Effect Transistor) to tranzystor złączowy polowy, sterowany napięciem, który pełni funkcję przełącznika lub wzmacniacza sygnału elektrycznego w obwodach elektronicznych i energoelektronicznych. Jest to najczęściej stosowany typ tranzystora na świecie — zarówno w układach cyfrowych (procesory, pamięci), jak i w systemach mocy (przetwornice, falowniki, ładowarki).
Budowa MOSFET-a:
MOSFET składa się z trzech głównych elementów:
- bramka (gate) – cienka warstwa metalu (lub polikrzemu), która steruje przepływem prądu,
- źródło (source) – punkt wejściowy dla nośników ładunku (elektronów lub dziur),
- drenaż (drain) – punkt wyjściowy dla prądu,
- między bramką a półprzewodnikiem znajduje się cienka warstwa tlenku (zwykle SiO₂), pełniąca funkcję izolatora.
Dynamika wzrostu rynku półprzewodników mocy SiC
Według danych Consegic Business Intelligence wartość rynku SiC power electronics wzrośnie z 1,503 mld USD w 2024 roku do 9,349 mld USD w 2032, co oznacza średnioroczny wzrost na poziomie 25,7%. Równolegle raporty z innych źródeł prognozują nawet jeszcze wyższy skumulowany wzrost — aż 32,6% — dla całego rynku węglika krzemu, osiągającego wartość 17,2 mld USD do 2029 roku.
Do głównych motorów napędzających ten wzrost należą:
- systemy trakcyjne pojazdy elektryczne SiC – gdzie SiC zastępuje krzem w falownikach i przekształtnikach,
- infrastruktura 5G – wymagająca ultra-szybkiego przełączania i pracy przy dużej gęstości mocy,
- rozwój mikroinwerterów PV oraz magazynów energii.
Geograficzne centrum rozwoju
-
Azja-Pacyfik to największy rynek z ponad 42% udziałem — dominują Chiny, Korea i Tajwan.
-
Ameryka Północna inwestuje w niezależność łańcuchów dostaw — wzrost z 498,83 mln USD w 2024 do ponad 3 mld USD w 2032.
-
Europa buduje zaplecze przemysłowe, rozwijając lokalnych producentów wafrów i komponentów SiC.
Struktura rowkowa vs planarna: rewolucja w przewodności
Fundamentalne różnice architektoniczne
Struktura planarna (planar MOSFET):
- kanał przewodzący zlokalizowany na powierzchni wafla,
- relatywnie wysoka rezystancja właściwa,
- uproszczony proces technologiczny (łatwiejsze trawienie, mniejsze zagrożenie uszkodzeniami),
- większe ryzyko defektów interfejsu SiC/SiO₂.
Struktura rowkowa (trench SiC MOSFET struktura rowkowa):
- kanał przewodzenia formowany w głębokim rowku wytrawionym w krysztale SiC,
- znacznie niższa rezystancja właściwa — nawet o 50% niższa niż w poprzedniej generacji,
- większa powierzchnia kanału przy tej samej powierzchni tranzystora,
- bardziej kontrolowany rozkład pola elektrycznego, lepsza odporność na przebicie.
Przełomowe osiągnięcia głównych producentów
-
Infineon CoolSiC™ MOSFET G2
-
struktura trench nowej generacji,
-
dostępne klasy napięciowe: 650V, 1200V, 1700V, 2000V,
-
zastosowanie: przemysł PV, magazyny energii, ultraszybkie ładowarki EV.
-
ROHM 4. generacja SiC MOSFET
-
40% niższa rezystancja włączenia w porównaniu do poprzedniej generacji,
-
zoptymalizowana struktura rowkowa pod kątem wysokiej częstotliwości przełączania.
-
Fuji Electric trench MOSFET
-
zaawansowana optymalizacja geometrii kanału,
-
redukcja rezystancji o ponad 50% w porównaniu do struktury planarnej.
Zastosowania materiałów w produkcji MOSFET
MOSFET-y wykonane z węglika krzemu (SiC) charakteryzują się znacznie lepszą wydajnością niż standardowe, krzemowe odpowiedniki – pracują przy wyższych temperaturach, większych napięciach i oferują niższe straty przełączania. To między innymi dlatego dominują w sektorze elektromobilności, energetyki i telekomunikacji nowej generacji.
Wytwarzanie tranzystorów MOSFET opartych na węgliku krzemu wymaga zastosowania komponentów o najwyższej trwałości i czystości. Znajdują tu zastosowanie rozwiązania oferowane przez CERAMIT:
Ceramiczne komponenty w procesach produkcyjnych:
- prowadnice ceramiczne do automatycznych systemów manipulacyjnych,
- dysze ceramiczne stosowane w CVD i epitaksji,
- tygielki z AlN do wzrostu kryształów SiC metodą sublima-cyjną (PVT),
- łożyska ceramiczne w układach transportu wafrów, odporne na zanieczyszczenia i wyładowania elektrostatyczne.
Wyzwania produkcyjne półprzewodników węglik krzemu:
- trudności w uzyskaniu wysokiej jakości interfejsu SiC/SiO₂ — wpływającego na parametry końcowe,
- wysoki koszt wafrów (do 200 mm) – związany z trudnością w ich wzroście i obróbce,
- precyzyjne wymagania względem powtarzalności — każdy defekt wpływa na niezawodność układu.
Produkty CERAMIT w sektorze SiC power electronics
W naszej ofercie dostępne są rozwiązania, które odpowiadają na rosnące potrzeby przemysłu półprzewodników SiC:
- węglik krzemu (SiC) – płyty, tuleje, elementy konstrukcyjne odpornie na korozję, uderzenia i wysokie temperatury,
- azotek glinu (AlN) – wysokoprzewodzące ceramiczne substraty i obudowy izolujące (170–200 W/mK),
- tlenek glinu (Al₂O₃) – izolatory ceramiczne, obudowy i elementy wspierające dla elektroniki mocy,
- prowadnice ceramiczne i łożyska – komponenty maszyn produkcyjnych do przetwarzania wafrów i montażu chipów,
- ceramiczne komponenty do procesów chemicznych – odporne na H₂, Cl₂, F₂ i inne agresywne media używane w produkcji chipów.
Najważniejsze korzyści z wdrożenia SiC MOSFET w układach mocy
Wprowadzenie tranzystorów MOSFET SiC do przemysłu energetycznego i elektromobilności przynosi wymierne korzyści:
- redukcja strat przełączania i przewodzenia,
- mniejszy rozmiar i masa falowników,
- wyższa temperatura pracy (nawet do 200°C bez utraty parametrów),
- większa żywotność urządzeń.
W kontekście produkcji i konserwacji warto korzystać z elementów ceramicznych o potwierdzonej jakości. Oferowane przez CERAMIT rozwiązania zapewniają stabilność i czystość w najbardziej wymagających warunkach. To między innymi wspomniane elementy z węglika krzemu, które mogą być stosowane jako podłoża, płytki, prowadnice, płyty grzejne – wszędzie tam, gdzie potrzebna jest odporność na temperaturę, ścieranie i szok termiczny. Nasza oferta odpowiada zarówno na potrzeby producentów półprzewodników, jak i na wymagania integratorów systemów energetycznych nowej generacji.
FAQ – najczęstsze pytania
Jakie są główne różnice między strukturą rowkową a planarną SiC MOSFET?
Struktura rowkowa oferuje niższą rezystancję i lepszą kontrolę pola elektrycznego. Planarna jest prostsza w produkcji, ale bardziej podatna na defekty.
Jakie są wyzwania produkcyjne półprzewodników węglik krzemu?
Największe to kontrola interfejsu SiC/SiO₂, koszt produkcji wafrów 200 mm oraz wymogi dotyczące precyzji i powtarzalności.
Jakie materiały ceramiczne wspierają produkcję MOSFET SiC?
SiC, AlN, Al₂O₃ – jako substraty, obudowy, prowadnice i komponenty konstrukcyjne.
Jak SiC wpływa na systemy trakcyjne pojazdów elektrycznych?
Umożliwia miniaturyzację falowników, redukcję strat cieplnych oraz zapewnia wyższą sprawność układu.
Czy CERAMIT oferuje produkty wspierające przemysł półprzewodników?
Tak — m.in. komponenty z SiC, AlN i Al₂O₃, a także gotowe elementy ceramiczne do linii produkcyjnych i układów mocy.
Chcesz dowiedzieć się więcej o komponentach ceramicznych do systemów mocy i półprzewodników? Skontaktuj się z nami – dobierzemy odpowiednie materiały i rozwiązania dla Twojej technologii.